Tại Đại học Tổng hợp Lobachevsky ở Nizhny Novgorod (UNN), các nhà khoa học đã tạo ra một dung dịch đánh bóng dùng cho các tấm bán dẫn bằng cách sử dụng silicon dioxide (SiO₂) tinh khiết.
Trường đại học này cho biết với hãng thông tấn TASS rằng dung dịch này cho phép kiểm soát kích thước và hình dạng hạt, cũng như giảm thiểu tạp chất.
Ảnh do AI thực hiện.
Các nhà khoa học từ Phòng thí nghiệm Nghiên cứu Hóa học Kỹ thuật thuộc Viện Hóa học đã nhận được bằng sáng chế cho phương pháp tinh chế silic dioxide vô định hình vào tháng 10 năm 2026.
Dây chuyền sản xuất và các quy trình để sản xuất vật liệu này đã được thiết lập, và hỗn hợp thu được đã được gửi đến một đối tác công nghiệp để thử nghiệm. Công việc đã được tiến hành theo chương trình Ưu tiên 2030.
Chất lượng gia công tấm bán dẫn, và do đó độ tin cậy và hiệu suất của chip, phụ thuộc vào kích thước, hình dạng và độ đồng nhất của các hạt nano. Trước đây, các chất mài mòn có độ tinh khiết cao được mua từ nước ngoài, và tình trạng thiếu hụt nguồn cung đã gây khó khăn cho ngành công nghiệp.
Việc tự sản xuất dung dịch mài mòn giúp giảm sự phụ thuộc vào nhập khẩu, nhưng đây chỉ là bước đầu tiên: Mở rộng quy mô và xác nhận sự ổn định của nhà sản xuất là những bước tiếp theo. Nếu các đặc tính được xác nhận trên dây chuyền sản xuất, ngành công nghiệp vi điện tử Nga sẽ có được một vật tư tiêu hao sản xuất trong nước, rất cần thiết cho việc đánh bóng tấm bán dẫn.
Tham khảo: TASS
